形状测量激光显微系统

VK-X3000 系列

形状测量激光显微系统 VK-X3000 系列

搭载白光干涉功能
纳米/微米/毫米一台即可完成测量

超越激光显微镜的限制，以三重扫描方式应对

VK-X3000 系列 - 形状测量激光显微系统

采用了三重扫描方式，运用激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理，高倍率和低倍率，平面、凹凸表面的细微粗糙度，以及镜面体，透明体等。VK拥有应对多种样品的测量能力（从 1 nm 到 50 mm），纳米/微米/毫米一台完成测量。

从光学显微镜到SEM领域一台设备涵盖

非接触瞬间扫描形状

希望了解的表面“差异”一目了然

白光干涉 / 激光共聚焦 / 聚焦变化

可根据样品工件的材料、形状和测量范围，选择激光共聚焦、白光干涉、聚焦变化等三种不同的扫描原理，进行高精度测量。

即使是纳米级的微小形状变化也能准确测量。
此外，如镜面体、透明体等测量难度高的材料也能实现高速、高精度、大范围的测量。

最大扫描区域50 mm见方。
凹凸不平或手掌大小的物体也能整体扫描。
只需一台设备，即可同时掌握整体形状和局部形状。

适用于各种目标物的测量能力